Gaz o wysokiej czystości stal nierdzewna zawór pneumatyczny zawór wysokiego ciśnienia 1/4 cala
Opis produktu
Specyfikacja pneumatycznej zaworu przepony
| Dane techniczne | ||
| Rozmiar portu | 1/4 ″ | |
| Współczynnik wyładowania (CV) | 0,2 | |
| Maksymalna presja robocza | Podręcznik | 310 bar (4500 psig) |
| Pneumatyczny | 206 bar (3000 psig) | |
| Presja robocza siłownika pneumatycznego | 4,2 ~ 6,2 bar (60 ~ 90 psig) | |
| temperatura pracy | PCTFE ： -23 ~ 65 ℃ （-10 ~ 150 ℉） | |
| Szybkość upływu (hel) | wewnątrz | ≤1 × 10-9 mbar L/s |
| zewnętrzny | ≤1 × 10-9 mbar L/s | |
| Dane dotyczące przepływu | ||
| powietrze @ 21 ℃ （70 ℉） Woda @ 16 ℃ （60 ℉） | ||
| Spadek ciśnienia maksymalnego paska ciśnienia powietrza (PSIG) | powietrze (lmin) | Woda (l/min) |
| 0,68 (10) | 64 | 2.4 |
| 3.4 (50) | 170 | 5.4 |
| 6.8 (100) | 300 | 7.6 |
Proces czyszczenia
▶ Standard (WK-ba)
Wszystkie spawane połączenia powinny być czyszczone zgodnie ze standardowymi specyfikacjami sprzątania i pakowania firmy.
Podczas zamawiania nie ma potrzeby dodawania sufiksu
▶ Czyszczenie tlenu (WK-O2)
Można zapewnić specyfikacje czyszczenia produktów i opakowania dla środowiska tlenu. Ten produkt spotyka
Wymagania czystości ASTMG93C. Przy zamawianiu dodaj - o2 po numerze zamówienia
▶ Ultra wysoka czystość (WK-EP)
Może zapewnić kontrolowane wykończenie powierzchniowe, elektropolishing Ra0 trzynaście μm. Dejonizowane
Ultradźwiękowe czyszczenie wodne. Zamówić, dodaj - EP po numerze zamówienia
Wszystkie spawane połączenia powinny być czyszczone zgodnie ze standardowymi specyfikacjami sprzątania i pakowania firmy.
Podczas zamawiania nie ma potrzeby dodawania sufiksu
▶ Czyszczenie tlenu (WK-O2)
Można zapewnić specyfikacje czyszczenia produktów i opakowania dla środowiska tlenu. Ten produkt spotyka
Wymagania czystości ASTMG93C. Przy zamawianiu dodaj - o2 po numerze zamówienia
▶ Ultra wysoka czystość (WK-EP)
Może zapewnić kontrolowane wykończenie powierzchniowe, elektropolishing Ra0 trzynaście μm. Dejonizowane
Ultradźwiękowe czyszczenie wodne. Zamówić, dodaj - EP po numerze zamówienia
 | Główne materiały konstrukcyjne | ||
| Numer seryjny | element | Tekstura materiału | |
| 1 | Uchwyt | aluminium | |
| 2 | Aparat | aluminium | |
| 3 | STEM VALVE | 304 ss | |
| 4 | Czapeczka | S17400 | |
| 5 | Nakrętka maski | 316 SS | |
| 6 | Przycisk | mosiądz | |
| 7 | przepona (5) | Nikiel Cobalt Stop | |
| 8 | Siedzisko zaworu | Pctfe | |
| 9 | korpus zaworu | 316L SS | |
Wymiary i informacje o zamawianiu
Prosto przez typ
rozmiar
Wymiary są w calach (mm) tylko w celach informacyjnych
rozmiar
Wymiary są w calach (mm) tylko w celach informacyjnych
| Podstawowy numer zamówienia | Typ i rozmiar portu | sizein. (mm) | |||
| A | B | C | L | ||
| WV4H-6L-TW4- | 1/4 ″ rurka -W | 0,44 (11,2) | 0,30 (7,6) | 1.12 (28,6) | 1,81 (45,9) |
| WV4H-6L-FR4- | 1/4 ″ FA-MCR | 0,44 (11,2) | 0,86 (21,8) | 1.12 (28,6) | 2.85 (72,3) |
| WV4H-6L-MR4- | 1/4 ″ MA-MCR1/4 | 0,44 (11,2) | 0,58 (14,9) | 1.12 (28,6) | 2.85 (72,3) |
| WV4H-6L-TF4- | OD | 0,44 (11,2) | 0,70 (17,9) | 1.12 (28,6) | 2.85 (72,3) |
Zaangażowane branże
TFT-LCD
Procesowe specjalne gazy stosowane w procesie odkładania CVD procesu produkcyjnego TFT-LCD są silane (S1H4), amoniak (NH3), fosfina (pH3), tlenek azotu (N2O), NF3 itp. Ponadto w tym procesie zaangażowane są również wodór o wysokiej czystości i azot o wysokiej czystości i inne gazu obcokowe. Argon jest używany w procesie rozpylania, a gazowy gazowy gaz jest głównym materiałem do rozpylania. Po pierwsze, wymagane jest, aby gaz tworzący film nie mógł zareagować z celem, a najbardziej odpowiednim gazem jest gaz obojętny. Duża ilość specjalnego gazu zostanie również wykorzystana w procesie trawienia, podczas gdy elektroniczny specjalny gaz jest w większości łatwopalny, wybuchowy i wysoce toksyczny, więc wymagania dotyczące obwodu gazowego i technologii są bardzo wysokie. Technologia WOFEI specjalizuje się w projektowaniu i instalacji specjalnego systemu przesyłowego gazu o ultra wysokiej czystości.
Gazy specjalne są wykorzystywane głównie w procesach formowania filmu i suchych trawienia w branży LCD. Istnieje wiele rodzajów LCD, wśród których TFT-LCD jest najczęściej stosowaną technologią LCD ze względu na szybki czas reakcji, wysoką jakość obrazowania i stopniowo niższe koszty. Proces produkcyjny panelu TFT-LCD można podzielić na trzy etapy: zestaw przednich, środkowych i tylnych modułów. Elektroniczny gaz specjalny jest używany głównie w folii i suchym etapie trawienia przedniego procesu macierzy. Po wielu procesach formowania filmu sinx folii niemetaliczne i filmy metalowe, takie jak siatka, źródło, drenaż i ITO, są odpowiednio osadzone na podłożu.
Q1. A co z czasem realizacji?
Odp.: Próbka wymaga 3-5 dni, masowy czas produkcji wymaga 1-2 tygodni dla ilości zamówienia więcej niż
Q2. Czy masz jakiś limit MOQ?
Odp.: Low MOQ 1 zdjęcie.
Q3. Jak wysyłasz towary i ile czasu zajmuje przybycie?
Odp.: Zwykle wysyłamy DHL, UPS, FedEx lub TNT. Zwykle zajmuje to 5-7 dni. Wysyłka linii lotniczych i morskiej również opcjonalnie.
Q4. Jak kontynuować zamówienie?
Odp.: Najpierw daj nam znać swoje wymagania lub aplikację.
Po drugie, cytujemy zgodnie z twoimi wymaganiami lub naszymi sugestiami.
Po trzecie, klient potwierdza próbki i składa depozyt na formalne zamówienie.
Po czwarte, organizujemy produkcję.
Napisz swoją wiadomość tutaj i wyślij ją do nas
